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抽取式氨逃逸分析系统NH3氨气分析仪脱硝氨逃逸设备
更新时间:2020-05-11
产品型号:YXEA2000
产品品牌:宜先
产品分类:上海机械及工业制品 > 上海仪器、仪表
发布企业:上海宜先环保仪器有限公司
发布 IP:
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抽取式氨逃逸分析系统NH3氨气分析仪脱硝氨逃逸设备
产品介绍
宜先防爆型氨逃逸在线监测系统对火电厂及供暖厂的燃煤锅炉SCR/SNCR脱硝工艺中的NH3逃逸量进行实时的在线监测,监测结果可以指导优化还原剂氨的注入量,以达到提高脱硝效率的目的。
解决了在脱硝系统中存在高温、高湿、高粉尘的恶劣环境,并能够稳定、可靠、准确地检测出1~3ppmV的微量逃逸氨气浓度。
同时有效地控制NH3逃逸量减少铵盐的生成,避免对下游设备的腐蚀和危害,延长催化剂寿命,节约运营成本。SCR/SNCR脱硝工艺多采用高温氨法还原原理,由此决定了逃逸NH3的高温高粉尘的测量环境。
产品特点
- 此设备是ⅡC防爆型的
- 整套系统实现原位安装,实时测量,自动吹扫,检测下限低(原位对射式激光分析仪无法达到),从根本上解决了采样预处理带来的诸如响应滞后、维护频繁、易堵易漏、易损件和运行费用高等各种问题。
- 测量结果准确,响应时间极快,无需校准
- 采用二次谐波原理,在相同光程条件下,分辨率高,可实现超低浓度的NH3测量
- 高精度,可以达到ppb级
TDLAS技术
采用可调谐半导体激光吸收光谱( TDLAS)进行测量。当激光二极管的光通过被测量气体时,其波长可调谐成被测气体的吸收波长,此光被调谐波长扫描,并由光二极管把透过的光信号记录下来,由计算单元计算吸收光的信号大小,进而得到气体的浓度。
它与传统光谱吸收技术的不同之处在于半导体激光光谱宽度远小于气体吸收谱线的展宽。因此,半导体激光吸收光谱技术是一种**辨率的光谱吸收技术。
预处理设计原理
宜先防爆氨逃逸分析系统是采用近原位的方式进行取样分析,样品气从采样口到分析测量池全程高温在200℃以上,过滤精度0.3微米,配置高温气动阀并且实现自动反吹扫功能,从而减少维护工作量。
技术参数
量程: 0~5~10ppm(可定制)
线性误差: ≤±1%F.S/7d
量程漂移: ≤±1%F.S/7d
重复性: <1%
响应时间(T90): ≤2 S (T90)
预热时间: 1h
防护等级: IP65
模拟量输出: 4-20 mA
通讯接口 :1路RS-485
通讯协议: PROFIBUS–DP(选配)
报警信号: 继电器(2路)
供电电源: AC 220V ±10V 50Hz
功耗: ≤2.5KW 环境温度 -20~60℃
相对湿度: ≤90% RH,无结露
工作温度: -40~230℃
吹扫气体: 0.3~0.8MPa 工业氮气或者净化仪表空气
对接法兰规格: DN65 PN1.0
安装方式: 抽取式原位安装
应用领域
- 火力发电厂脱硝工艺段
- 化工水泥厂
- 垃圾焚烧处理厂
- 燃煤发电厂
- 钢铁冶炼厂
- 玻璃制造厂等
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